不走尋常路,中國9納米光刻機問世,打破西方技術封鎖

2019年04月17日     9,174     檢舉

技術封鎖阻擋中國發展?中國9納米光刻機問世,打破技術壁壘

光刻機又被稱之為曝光系統光刻系統,是當前人類文明的頂尖科技之一,它主要的用途就是用來進行晶片的製造,迄今為止任何一項頂級晶片都必須要有一個非常頂尖的光刻機才能夠製造出來,而不得不承認的是,美國等已開發國家在這方面一直以來都做得非常的出色,中國在這一領域可謂是一直以來都是受制於他人。

西方等已開發國家所組成的技術壁壘,完美的封鎖了中國在攻科技領域的研究,這種風俗也讓中國在晶片領域一直以來都沒有太大的發展,因此在很早之前,我國就大量的投入資金用於研發自己的晶片製造機,也就是光刻機。

光刻機的性能指標可以從多個方面來判斷,比如說支持基片的尺寸範圍,解析度,對準精度以及曝光方式等方面,而前不久根據媒體的報道,我國武漢光電中心的甘棕松團隊在完全自主研發的光刻機上成功的實現了9納米線段的光刻研究,可謂是不走尋常路的,突破了西方國家的技術壁壘封鎖。

作為晶片製造領域的關鍵設備,頂尖的光刻機技術一直以來都保存在西方已開發國家的手中,更為關鍵的是這些設備即便中國有錢也是難以買到的,因為所有的西方國家都深知,一旦中國掌握了這種光刻機必然會在晶片領域大力的發展,從而威脅長久以來,西方已開發國家在晶片領域的市場。

製造光科技的專家團隊表示傳統的製造高科技的方式,完全無法實現高精度的光刻機,因此他們只能通過其他的方法來製造出屬於我們中國自己的光刻機,雖然目前距離工業化生產還有很長的一段時間,但是這無疑是一個很好的開始,這也給西方國家敲響了警鐘,單純的技術封鎖是無法阻擋中國發展的。